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Eksma 高反射鍍膜

簡(jiǎn)要描述:Eksma 高反射鍍膜
多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時(shí)在特定的激光線波長(zhǎng)處實(shí)現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-22
  • 訪  問  量:850

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 高反射鍍膜




Eksma 高反射鍍膜

介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時(shí)在特定的激光線波長(zhǎng)處實(shí)現(xiàn)較大可能反射率的疊層。

產(chǎn)品介紹

多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時(shí)在特定的激光線波長(zhǎng)處實(shí)現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應(yīng)用,在這些應(yīng)用中,甚至可能會(huì)有很小的損失。

請(qǐng)發(fā)送帶有鍍膜和基材代碼的定制產(chǎn)品請(qǐng)求,以獲取報(bào)價(jià)。對(duì)于基材,請(qǐng)參閱我們的標(biāo)準(zhǔn)未鍍膜激光窗口部分。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號(hào)

高反射率激光線鍍膜

鍍膜型號(hào)

波長(zhǎng)

反射率(%)

推薦

損傷

AOI=0°


AOI=45°


nm


AOI=0°

AOI=45°

基材

閾值

1007-i0

1007-i45

226

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1009-i0

1009-i45

248

>99

>99

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1011-i0

1011-i45

266

>99.5

>99

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1013-i0

1013-i45

308

>99.5

>99.2

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1015-i0

1015-i45

325

>99.5

>99.2

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1017-i0

1017-i45

337

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1019-i0

1019-i45

355

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1021-i0

1021-i45

400

>99.7

>99.5

UVFS

1.5 J/cm2
in 10 ns

1023-i0

1023-i45

473

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1024-i0

1024-i45

488-515

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1025-i0

1025-i45

532

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1027-i0

1027-i45

589

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1029-i0

1029-i45

616

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1030-i0

1030-i45

633

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1031-i0

1031-i45

780

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1032-i0

1032-i45

800

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1033-i0

1033-i45

830

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1034-i0

1034-i45

852

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1037-i0

1037-i45

1064

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

5 J/cm2
in 10 ns

1039-i0

1039-i45

1320

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1045-i0

1045-i45

1550

>99.7

>99.5

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1047-i0

1047-i45

2000

>99

>99

UVFS, Sapphire

1.5 J/cm2
in 10 ns

1049-i0

1049-i45

2100

>99

>99

UVFS, Sapphire

1.5 J/cm2
in 10 ns

 

高反射率寬帶涂層

鍍膜型號(hào)

波長(zhǎng)

反射率(%)

推薦

損傷

AOI=0°


AOI=45°


nm


AOI=0°

AOI=45°

基材

閾值

1106-i0

1106-i45

220-250

>99

>99

UVFS

1 J/cm2 in 10 ns

1110-i0

1110-i45

260-340

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1114-i0

1114-i45

350-450

>99

>99

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

1116-i0

1116-i45

420-680

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1130-i0

1130-i45

600-900

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1132-i0

1132-i45

720-880

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1133-i0

1133-i45

760-840 nm

>99

>99

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

1142-i0

1142-i45

900-1100

>99

>99

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

1144-i0

1144-i45

1100-1400

>99

>99

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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