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簡要描述：Eksma 可變衰減器990-0073可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質：代理商更新時間：2024-04-23訪 問 量：947相關文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 可變衰減器990-0073
適用于飛秒和ND：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073
Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束手動調節(jié)的強度比，以68°角分開
?大動態(tài)范圍
?透射光束偏移?1.4毫米
?高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階（光學接觸）。直徑為40 mm的半波片（用于飛秒脈沖），零階空間隔的半波片（用于高功率應用）或多階半波片（用于Nd：YAG激光脈沖）容納在旋轉的偏振片支架840-0180-A2中，放置在入射的線性偏振激光束中。
可以通過旋轉波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數(shù)?？梢栽诤軐挼膭討B(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。
840-0056-13運動安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動基座820-0090上。
距桌面的光軸高度可以在92-98 mm的范圍內調節(jié)。可以提供其他高度作為定制，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。
產(chǎn)品型號
適用于Nd：YAG激光應用
代碼 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0073-355 | 355 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
990-0073-532 | 532 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
990-0073-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
飛秒激光脈沖
代碼 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0073-266 | 266 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-343 | 343 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-400 | 400 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-515 | 515 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800 | 800 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800B | 780-820 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030 | 1030 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030B | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
適用于高功率飛秒應用
代碼 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0073-266H | 266 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-343H | 343 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-400H | 400 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-515H | 515 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800H | 800 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800HB | 780-820 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030H | 1030 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030HB | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
通光孔徑 | 36 mm |
損害閾值 | |
對于Nd：YAG應用 | >5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical |
飛秒應用 | >10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical |
用于大功率應用 | >100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical |
偏振比 | >1:200 |
透射光束偏移 | ~1.4 mm |
重量 | 0.6 kg |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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