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Eksma FEMTOLINE薄型BBAR透鏡350-900 NM-1

簡(jiǎn)要描述：Eksma FEMTOLINE薄型BBAR透鏡350-900 NM-1
在350-900 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有寬帶減反射鍍膜的薄透鏡。

  • 產(chǎn)品品牌：Eksma
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2021-03-17
  • 訪  問(wèn)  量：803

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE薄型BBAR透鏡350-900 NM-1


Eksma FEMTOLINE薄型BBAR透鏡350-900 NM-1

在350-900 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有寬帶減反射鍍膜的薄透鏡。

產(chǎn)品介紹

Ø超寬帶抗反射鍍膜的AR / AR @ 350-900 nm

Ø非常薄的厚度：邊緣厚度在0.5到1.9mm之間變化

Ø中心厚度從1到3mm不等

Ø平凸或平凹類(lèi)型

Ø未鍍膜，AR鍍膜在760-840 nm或BBAR鍍膜在700-900 nm

Femtoline Thin Ultra BBAR Femtoline Thin Ultra BBAR鍍膜在350-900 nm透鏡上，適用于寬帶飛秒Ti：Sapphire激光脈沖。所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti：Sapphire激光脈沖的低群延遲色散。

產(chǎn)品型號(hào)

平凸透鏡（ø12.7mm）

型號(hào)

材料

類(lèi)型

直徑

CT

ET

焦距@ 800NM

反射

110-1106ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

2.5 mm

1.0 mm

30 mm

R<1.5%

110-1108ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.8 mm

0.7 mm

40 mm

R<1.5%

110-1109ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.9 mm

1.0 mm

50 mm

R<1.5%

110-1111ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.8 mm

1.2 mm

75 mm

R<1.5%

110-1115ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.5 mm

0.9 mm

100 mm

R<1.5%

110-1117ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.4 mm

1.0 mm

125 mm

R<1.5%

110-1119ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.5 mm

1.2 mm

150 mm

R<1.5%

110-1121ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.2 mm

1.0 mm

175 mm

R<1.5%

110-1123ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.2 mm

1.0 mm

200 mm

R<1.5%

110-1126ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

250 mm

R<1.5%

110-1129ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

300 mm

R<1.5%

110-1133ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

400 mm

R<1.5%

110-1135ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

450 mm

R<1.5%

110-1137ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

12.7 mm

1.1 mm

1.0 mm

500 mm

R<1.5%

Thin Plano-Convex Lenses (ø25.4 mm)

型號(hào)

材料

類(lèi)型

直徑

CT

ET

焦距@ 800NM

反射

110-1205ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

4.9 mm

1.0 mm

50 mm

R<1.5%

110-1209ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

3.0 mm

0.5 mm

75 mm

R<1.5%

110-1211ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.5 mm

0.7 mm

100 mm

R<1.5%

110-1216ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

0.6 mm

125 mm

R<1.5%

110-1217ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

0.8 mm

150 mm

R<1.5%

110-1219ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

1.1 mm

200 mm

R<1.5%

110-1223ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

1.4 mm

300 mm

R<1.5%

110-1225ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

1.5 mm

350 mm

R<1.5%

110-1227ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

1.6 mm

400 mm

R<1.5%

110-1231ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

1.6 mm

450 mm

R<1.5%

110-1233ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

2.0 mm

1.6 mm

500 mm

R<1.5%

110-1245ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

1.5 mm

1.3 mm

1000 mm

R<1.5%

110-1255ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

1.4 mm

1.3 mm

1500 mm

R<1.5%

110-1265ET+UBBAR

UVFS

pl/cx

25.4 mm

1.4 mm

1.3 mm

2000 mm

R<1.5%

 

材料

UVFS

表面質(zhì)量

40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

通光孔徑

90% of the diameter

直徑公差

+0.00, -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

表面不規(guī)則

λ/8
@ 633 nm

同心度

3 arcmin

近軸焦距

±2% @ 800 nm

 

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑

通光孔徑

超過(guò)中心直徑的85％

損壞閾值

50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm

鍍膜表面平整度

通光孔徑下633 nm處的λ/ 10

入射角

0度

 

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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