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簡(jiǎn)要描述：Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM鍍膜在800±20 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值，50 fsec脈沖，800 nm典型值和高反射率（R> 99.7％）
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：966詳細(xì)介紹
| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM
Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM
鍍膜在800±20 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值，50 fsec脈沖，800 nm典型值和高反射率（R> 99.7％）
產(chǎn)品介紹
Ø在 800±20 nm處鍍膜
Ø激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm
Ø由UVFS或BK7制造
Ø提供25.4或50.8mm尺寸
具有高激光損傷閾值的高反射率（R> 99.7％）電介質(zhì)鍍膜被應(yīng)用在激光后視鏡上。建議將UVFS基板用于高功率激光應(yīng)用。背面可以鍍?cè)鐾改ぃ筛鶕?jù)要求避免從二表面反射回來(lái)。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號(hào)
BK7 Rear Mirrors at 800 nm
型號(hào) | 材料 | 尺寸 | 波長(zhǎng) | 基材 | 半徑 |
032-0800-i0 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-plano | ∞ |
062-8005 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -50 mm |
062-8010 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -100 mm |
062-8015 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -150 mm |
062-8020 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -200 mm |
062-8025 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -250 mm |
062-8050 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -500 mm |
062-8100 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -1000 mm |
062-8200 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2000 mm |
062-8250 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2500 mm |
062-8400 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -4000 mm |
062-8500 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-concave | -5000 mm |
062-9010 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-convex | 100 mm |
062-9020 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-convex | 200 mm |
062-9050 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-convex | 500 mm |
062-9100 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-convex | 1000 mm |
062-9200 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-convex | 2000 mm |
062-9400 | BK7 | ø25.4 x 6mm | 800±20 nm | Plano-convex | 4000 mm |
035-0800-i0 | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 800±20 nm | Plano-plano | ∞ |
065-8005 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -50 mm |
065-8010 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -100 mm |
065-8015 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -150 mm |
065-8020 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -200 mm |
065-8025 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -250 mm |
065-8050 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -500 mm |
065-8100 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -1000 mm |
065-8200 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2000 mm |
065-8250 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2500 mm |
065-8400 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -4000 mm |
065-8500 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -5000 mm |
065-9010 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 100 mm |
065-9020 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 200 mm |
065-9050 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 500 mm |
065-9100 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 1000 mm |
065-9200 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 2000 mm |
065-9400 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 4000 mm |
UVFS Rear Mirrors at 800 nm 型號(hào) | 材料 | 尺寸 | 波長(zhǎng) | 基材 | 半徑 |
042-0800-i0 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-plano | ∞ |
082-8005 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -50 mm |
082-8010 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -100 mm |
082-8015 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -150 mm |
082-8020 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -200 mm |
082-8025 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -250 mm |
082-8050 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -500 mm |
082-8100 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -1000 mm |
082-8200 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2000 mm |
082-8250 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2500 mm |
082-8400 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -4000 mm |
082-8500 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -5000 mm |
082-9010 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 100 mm |
082-9020 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 200 mm |
082-9050 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 500 mm |
082-9100 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 1000 mm |
082-9200 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 2000 mm |
082-9400 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 4000 mm |
045-0800-i0 | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800±20 nm | Plano-plano | ∞ |
085-8005 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -50 mm |
085-8010 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -100 mm |
085-8015 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -150 mm |
085-8020 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -200 mm |
085-8025 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -250 mm |
085-8050 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -500 mm |
085-8100 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -1000 mm |
085-8200 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2000 mm |
085-8250 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -2500 mm |
085-8400 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -4000 mm |
085-8500 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-concave | -5000 mm |
085-9010 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 100 mm |
085-9020 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 200 mm |
085-9050 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 500 mm |
085-9100 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 1000 mm |
085-9200 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 2000 mm |
085-9400 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 800±20 nm | Plano-convex | 4000 mm |
基材
材料 | UV級(jí)熔融石英或BK7玻璃 |
S1表面平整度 | 633 nm時(shí)為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
S2表面質(zhì)量 | 簡(jiǎn)單拋光 |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑 |
通光孔徑 | 超過(guò)中心直徑的85％ |
入射角 | 0-8°（正常） |
鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射率R> 99.7％ |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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