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Eksma FEMTOLINE雙波長(zhǎng)反射鏡

簡(jiǎn)要描述：Eksma FEMTOLINE雙波長(zhǎng)反射鏡
飛秒應(yīng)用的激光反射鏡被設(shè)計(jì)為具有較寬的工作波長(zhǎng)范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。

  • 產(chǎn)品品牌：Eksma
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2021-03-17
  • 訪  問(wèn)  量：915

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類(lèi)別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE雙波長(zhǎng)反射鏡


Eksma FEMTOLINE雙波長(zhǎng)反射鏡

飛秒應(yīng)用的激光反射鏡被設(shè)計(jì)為具有較寬的工作波長(zhǎng)范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。

產(chǎn)品介紹

飛秒應(yīng)用的激光反射鏡被設(shè)計(jì)為具有較寬的工作波長(zhǎng)范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。鍍膜是單層電介質(zhì)，在工作波長(zhǎng)范圍內(nèi)沒(méi)有相移。

對(duì)于相同的電介質(zhì)鍍膜，對(duì)于S偏振，高反射率反射鏡始終具有更高的反射率，更寬的工作區(qū)域和更低的脈沖失真。 如果可能，請(qǐng)使用帶有S偏振光束的反射鏡。

我們的標(biāo)準(zhǔn)反射鏡適用于基本的Ti：Sapphire和Yb：KGW / KYW激光器及其兩倍，三倍或四倍的頻率。推薦用于在UV區(qū)工作的高功率激光應(yīng)用。

 

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號(hào)

BK7, ø12.7 x 3 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

051-4080

BK7

ø12.7 x 3 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

051-4080-i0

BK7

ø12.7 x 3 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

051-5103

BK7

ø12.7 x 3 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

051-5103-i0

BK7

ø12.7 x 3 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

BK7, ø12.7 x 6 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

051-4080T6

BK7

ø12.7 x 6 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

051-4080T6-i0

BK7

ø12.7 x 6 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

051-5103T6

BK7

ø12.7 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

051-5103T6-i0

BK7

ø12.7 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

BK7, ø25.4 x 6 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

052-4080

BK7

ø25.4 x 6 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

052-4080-i0

BK7

ø25.4 x 6 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

052-5103

BK7

ø25.4 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

052-5103-i0

BK7

ø25.4 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

BK7, ø50.8 x 8 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

055-4080

BK7

ø50.8 x 8 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

055-4080-i0

BK7

ø50.8 x 8 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

055-5103

BK7

ø50.8 x 8 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

055-5103-i0

BK7

ø50.8 x 8 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

BK7, ø76.2 x 12.7 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

057-4080

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

390-410+780-820 nm

45°

 
      

057-4080-i0

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

057-5103

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

057-5103-i0

BK7

ø76.2 x 12.7 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

UVFS, ø12.7 x 3 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

061-4080

UVFS

ø12.7 x 3 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

061-4080-i0

UVFS

ø12.7 x 3 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

061-5103

UVFS

ø12.7 x 3 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

061-5103-i0

UVFS

ø12.7 x 3 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

UVFS, ø12.7 x 6 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

061-4080T6

UVFS

ø12.7 x 6 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

061-4080T6-i0

UVFS

ø12.7 x 6 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

061-5103T6

UVFS

ø12.7 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

061-5103T6-i0

UVFS

ø12.7 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

UVFS, ø25.4 x 6 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

062-4080

UVFS

ø25.4 x 6 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

062-4080-i0

UVFS

ø25.4 x 6 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

062-5103

UVFS

ø25.4 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

062-5103-i0

UVFS

ø25.4 x 6 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

UVFS, ø50.8 x 8 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

065-4080

UVFS

ø50.8 x 8 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

065-4080-i0

UVFS

ø50.8 x 8 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

065-5103

UVFS

ø50.8 x 8 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

065-5103-i0

UVFS

ø50.8 x 8 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

UVFS, ø76.2 x 12.7 mm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

AOI

R, % (S+P)/2

067-4080

UVFS

ø76.2 x 12.7 mm

390-410+780-820 nm

45°

99.5%

067-4080-i0

UVFS

ø76.2 x 12.7 mm

390-410+780-820 nm

0°

99.7%

067-5103

UVFS

ø76.2 x 12.7 mm

500-530+1000-1060 nm

45°

99.5%

067-5103-i0

UVFS

ø76.2 x 12.7 mm

500-530+1000-1060 nm

0°

99.7%

 

鍍膜

硬電介質(zhì)高反射率R> 99.5％

入射角

45±3°

專(zhuān)為平均偏振而設(shè)計(jì)

R =（Rs + Rp）/ 2

激光損傷閾值

> 50 mJ / cm2，50 fsec，800 nm典型

 

基材

材料

UV級(jí)熔融石英或BK7玻璃

S1表面平整度

633 nm時(shí)為λ/ 10

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）

S2表面質(zhì)量

簡(jiǎn)單拋光

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

楔

<3分鐘

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付

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